Patentmusterjacke Saphir

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PATENTMUSTERJACKE SAPHIR Passt überall drüber, lässt sich lässig oder chic stylen und ist herrlich bequem: So eine vielseitige Jacke mit ausdrucksstarker Rippenstruktur im versetzten Patentmuster ist ein modischer Tausendsassa. Das Muster mach...

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  • Jacke im Patentmuster aus Schurwolle
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PATENTMUSTERJACKE SAPHIR Passt überall drüber, lässt sich lässig oder chic stylen und ist... mehr
Produktinformationen "Patentmusterjacke Saphir"

PATENTMUSTERJACKE SAPHIR
Passt überall drüber, lässt sich lässig oder chic stylen und ist herrlich bequem: So eine vielseitige Jacke mit ausdrucksstarker Rippenstruktur im versetzten Patentmuster ist ein modischer Tausendsassa. Das Muster macht das Gestrick schön volumig und wattig weich. Die ideale Wolle dafür: ggh WOLLYWASH, reine Schurwolle, gibt es in vielen Farben.

Die verwendete Wolle WOLLYWASCH von ggh besteht aus 100% Schurwolle superwash und bietet eine riesige Auswahl von Farben. Da sind garantiert auch deine Lieblingsnuancen dabei! Die hochwertige Schurwolle sorgt in jedem Fall dafür, dass dein selbstgestricktes Maschenkunstwerk formstabil, dauerhaft schön und leicht zu pflegen ist. So stellt das hochwertige Material sicher, dass du lange Freude an deiner Jacke hast.

Du benötigst zusätzlich Stricknadeln 3 ½–4 sowie eine Rundstricknadel 3 ½– 4 in 60cm Länge.

Für: Damen
Design: Jacken, Mäntel
Handarbeit: Stricken
Strickmuster: Patentmuster, Halbpatentmuster
Saison: Herbst / Winter
Schwierigkeit: Fortgeschritten
Wolle: ggh Wollywasch
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